本书以薄膜材料为中心，系统地介绍了薄膜技术中常用的真空技术基础知识，各种物理和化学气相沉积技术和方法，薄膜材料的形核及生长理论，薄膜材料微观结构的形成以及薄膜材料的厚度、微观结构和成分的表征方法等。在此基础上，本书还有选择地讨论了薄膜材料在力学、光电子学、磁学等领域的典型应用实例，其中涉及各种机械防护涂层、金刚石膜、光电子器件、集成光学器件、磁记录及光记录介质材料等技术。
本书可作为高等学校材料、物理及相关专业本科生、研究生及老师的教学参考书，也可供从事薄膜材料制备、研究的工程技术人员参考
薄膜材料制备原理、技术及应用
内容提要 ：
目录 ：
1 薄膜制备的真空技术基础
1.1 气体分子运动论的基本概念 1.2 气体的流动状态和真空抽速 1.3 真空泵简介 1.4 真空的测量 参考文献 2 薄膜的物理气相沉积（Ⅰ）――蒸发法 2.1 物质的热蒸发 2.2 薄膜沉积的厚度均匀性和纯度 2.3 真空蒸发装置 参考文献 3 薄膜的物理气相沉积（Ⅱ）――溅射法及其他PVD方法 3.1 气体放电现象与等离子体 3.2 物质的溅射现象 3.3 溅射沉积装置 3.4 其他物理气相沉积方法 参考文献 4 薄膜的化学气相沉积 4.1 化学气相沉积反应的类型 4.2 化学气相沉积过程的热力学 4.3 化学气相沉积过程的动力学 4.4 CVD薄膜沉积过程的数值模拟 4.5 化学气相沉积装置 4.6 等离子体辅助化学气相沉积技术 参考文献 5 薄膜的生长过程和薄膜结构 5.1 薄膜生长过程概述 5.2 新相的自发形核理论 5.3 薄膜的非自发形核理论 5.4 连续薄膜的形成 5.5 薄膜生长过程与薄膜结构 5.6 非晶薄膜 5.7 薄膜结构 5.8 薄膜的外延生长 5.9 薄膜中的应力和薄膜的附着力 参考文献 6 薄膜材料的表征方法 7 薄膜材料及其应用 前言：
数年之后，本书以新的版本与读者见面了。这一方面说明了读者对本书的认可，而更主要的是证明了社会对于科学技术的巨大需求。正如我曾在第1版“前言”中所指出的那样：薄膜材料与其制备技术目前正处于一个蓬勃发展的阶段，不论是从科学研究的角度，还是从应用技术的角度来讲，薄膜材料与技术都占据了很重要的地位。因此，我深感有义务将本书修订得更好一些，以满足读者与社会对于有关知识的需求。.
本书的修订，一方面改正了第1版中存在的不妥之处，删除了一些不必要的内容；另一方面结合近年来的实践，对重点章节的内容进行了更新与补充。例如，在溅射法薄膜制备技术的介绍中，加强了对等离子体现象的物理描述..
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