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内容提要:
本书介绍了缩小到纳米尺寸的CMOS器件面临的挑战,以及为改善器件性能而发展的新工艺、新结构。全书共六章,内容涉及CMOS器件等比例缩小的发展趋势,缩小到纳米尺寸的CMOS器件面临的挑战,实现纳米图形尺寸的光刻技术,纳米CMOS器件中的栅工程,纳米CMOS器件中的沟道工程,以及各种新型的纳米CMOS器件结构及实现技术。本书取材新颖,基本反映了CMOS器件的最新发展。
本书可作为微电子专业高年级本科生以及研究生的教学参考书,对从事CMOS器件和集成电路设计与研究的科学家和工程师也有重要参考价值,信息领域其他专业的科技人员也可从本书中了解一些微电子技术的最新进展。
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